Lithographic performance of an environmentally stable chemically amplified photoresist (ESCAP)
- 作者W. Conley; G. Breyta; W. R. Brunsvold; R. A. Di Pietro; D. C. Hofer; S. J. Holmes; H. Ito; R. Nunes; G. Fichtl; P. Hagerty; J. W. Thackeray; R. R. Kunz
- 文件大小3636.77KB
- DOI10.1117/12.241840