EUV source-mask optimization for 7nm node and beyond
O. R. Wood; E. M. Panning; X. Liu; R. Howell; S. Hsu; K. Yang; K. Gronlund; F. Driessen; H. Liu; S. Hansen; K. Van Ingen Schenau; T. Hollink; P. Van Adrichem; K. Troost; J. Zimmermann; O. Schumann; C. Hennerkes; P. Gräupner
- 作者O. R. Wood; E. M. Panning; X. Liu; R. Howell; S. Hsu; K. Yang; K. Gronlund; F. Driessen; H. Liu; S. Hansen; K. Van Ingen Schenau; T. Hollink; P. Van Adrichem; K. Troost; J. Zimmermann; O. Schumann; C. Hennerkes; P. Gräupner
- 文件大小1114.24KB
- DOI10.1117/12.2047584