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Characterization of phosphorus implanted low pressure chemical vapor deposited polycrystalline silicon

Characterization of phosphorus implanted low pressure chemical vapor deposited polycrystalline silicon

Giora Yaron

作者Giora Yaron
卷第22卷
期第12期
印刷ISSN0038-1101
文件大小635.64KB
发表时间1979
DOI10.1016/0038-1101(79)90005-4
页码1017-1024

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