Development of an ion implanted bubble device with 4 µm period

• 作者Komenou, K.; Ohashi, M.; Miyashita, T.; Matsuda, K.; Satoh, Y.; Yamagishi, K.
• 卷第17卷
• 期第6期
• 印刷ISSN0018-9464
• 电子ISSN1941-0069
• 文件大小559.48KB
• 发表时间1981
• DOI10.1109/tmag.1981.1061492
• 页码2908-2913