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A resistively stabilized XeCl laser operating at 200 Hz

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Fujii, K.; Kearsley, A.; Andrews, A.; Errey, K.; Webb, C.

作者Fujii, K.; Kearsley, A.; Andrews, A.; Errey, K.; Webb, C.
卷第17卷
期第8期
印刷ISSN0018-9197
电子ISSN1558-1713
文件大小1111.36KB
发表时间1981
DOI10.1109/jqe.1981.1071271

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