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Laser annealing of silicon wafers at 10.6 μm

Laser annealing of silicon wafers at 10.6 μm

J. P. Hauck; M. M. Beguwala; C. L. Hayes; R. F. Palys

作者J. P. Hauck; M. M. Beguwala; C. L. Hayes; R. F. Palys
卷第64卷
期第1期
印刷ISSN1862-6319
文件大小384.73KB
发表时间1981
DOI10.1002/pssa.2210640144
页码407-412

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