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RF Annealing of Defects Induced in SiO2 by Oxygen Plasma

RF Annealing of Defects Induced in SiO2 by Oxygen Plasma

A. Szekeres; S. Alexandrova

作者A. Szekeres; S. Alexandrova
卷第77卷
期第2期
印刷ISSN1862-6319
文件大小246.34KB
发表时间1983
DOI10.1002/pssa.2210770239
页码721-724

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