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Direct evidence of arsenic clustering in high dose arsenic‐implanted silicon

Direct evidence of arsenic clustering in high dose arsenic‐implanted silicon

Wu, N. R.; Sadana, D. K.; Washburn, J.

作者Wu, N. R.; Sadana, D. K.; Washburn, J.
卷第44卷
期第8期
电子ISSN0003-6951
文件大小518.54KB
发表时间1984
DOI10.1063/1.94917

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