The 180° electron-scattering facility at Nikhef-K

A.J.H. Donné; G. Van Middelkoop; L. De Vries; L. Lapikás; J.B. Van der Laan; C. De Vries; J.G. Noomen

作者A.J.H. Donné; G. Van Middelkoop; L. De Vries; L. Lapikás; J.B. Van der Laan; C. De Vries; J.G. Noomen
卷第224卷
印刷ISSN0167-5087
文件大小749.67KB
发表时间1984
DOI10.1016/0167-5087(84)90451-4
页码97-105

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