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Vacuum chemical epitaxy utilizing organometallic sources

Vacuum chemical epitaxy utilizing organometallic sources

L. M. Fraas; P. S. Mcleod; L. D. Partain; M. J. Cohen; J. A. Cape

作者L. M. Fraas; P. S. Mcleod; L. D. Partain; M. J. Cohen; J. A. Cape
卷第15卷
期第3期
印刷ISSN0361-5235
电子ISSN1543-186X
文件大小1517.13KB
发表时间1986-05
DOI10.1007/bf02655333
页码175-180

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