ChemInform Abstract: Rapid Isothermal Annealing of Sputtered Phosphorus-Doped Silicon Films.
- 期刊名称Chemischer Informationsdienst
- 作者SERIKAWA, T.; OKAMOTO, A.
- 卷第17卷
- 期第27期
- 印刷ISSN0009-2975
- 文件大小124.69KB
- 发表时间1986-07-08
- DOI10.1002/chin.198627349
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