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Microstructural studies of reactive ion etched silicon

Microstructural studies of reactive ion etched silicon

Jeng, S. J.; Oehrlein, G. S.
  • 期刊名称Applied Physics Letters
  • 作者Jeng, S. J.; Oehrlein, G. S.
  • 卷第50卷
  • 期第26期
  • 印刷ISSN0003-6951
  • 文件大小785.26KB
  • 发表时间1987
  • DOI10.1063/1.97684
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