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Hydrogen plasma induced defects in silicon

Hydrogen plasma induced defects in silicon

Jeng, S. J.; Oehrlein, G. S.; Scilla, G. J.

期刊名称Applied Physics Letters
作者Jeng, S. J.; Oehrlein, G. S.; Scilla, G. J.
卷第53卷
期第18期
印刷ISSN0003-6951
文件大小796.95KB
发表时间1988
DOI10.1063/1.99810

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