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On simulation of resist profiles in electron beam lithography

On simulation of resist profiles in electron beam lithography

P.R. Deshmukh; N.K.L. Raja; W.S. Khokle

作者P.R. Deshmukh; N.K.L. Raja; W.S. Khokle
卷第28卷
期第2期
印刷ISSN0026-2714
文件大小353.78KB
发表时间1988
DOI10.1016/0026-2714(88)90355-1
页码223-228

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