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Quantum chemical study of adhesion at the SiC/Al interface

Quantum chemical study of adhesion at the SiC/Al interface

Li, S.; Arsenault, R. J.; Jena, P.
  • 期刊名称Journal of Applied Physics
  • 作者Li, S.; Arsenault, R. J.; Jena, P.
  • 卷第64卷
  • 期第11期
  • 印刷ISSN0021-8979
  • 文件大小1201.88KB
  • 发表时间1988
  • DOI10.1063/1.342082
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