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Ultrapure materials for alpha particle-sensitive applications

John A. Dunlop; Keith E. Ritala; James R. Gibbard; Rod Beauprie; Benoit Pouliquen; James H. Reeves; John C. Huneke; Wojciech A. Vieth

作者John A. Dunlop; Keith E. Ritala; James R. Gibbard; Rod Beauprie; Benoit Pouliquen; James H. Reeves; John C. Huneke; Wojciech A. Vieth
卷第41卷
期第6期
印刷ISSN1047-4838
电子ISSN1543-1851
文件大小964.32KB
发表时间1989-06
DOI10.1007/bf03220244
页码18-21