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Recent developments of focused ion beam implanter

H. Kasahara; H. Sawaragi; R. Mimura; R. Aihara; K. Nakamura; S. Matsui; T. Nozaki; W.B. Thompson; M.H. Shearer

作者H. Kasahara; H. Sawaragi; R. Mimura; R. Aihara; K. Nakamura; S. Matsui; T. Nozaki; W.B. Thompson; M.H. Shearer
卷第11卷
印刷ISSN0167-9317
文件大小301.26KB
发表时间1990
DOI10.1016/0167-9317(90)90142-g
页码417-420