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The mechanism of plasma-induced deposition of amorphous silicon from silane

The mechanism of plasma-induced deposition of amorphous silicon from silane

S. Vepřek; M. Heintze
  • 作者S. Vepřek; M. Heintze
  • 卷第10卷
  • 期第1期
  • 印刷ISSN0272-4324
  • 电子ISSN1572-8986
  • 文件大小968.28KB
  • 发表时间1990-03
  • DOI10.1007/bf01460445
  • 页码3-26
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