Numerical simulation of submicron photolithographic processing

• 期刊名称Journal of Scientific Computing
• 作者Eytan Barouch; John W. Cahn; Uwe Hollerbach; Steven A. Orszag
• 卷第6卷
• 期第3期
• 印刷ISSN0885-7474
• 电子ISSN1573-7691
• 文件大小2044.28KB
• 发表时间1991-09
• DOI10.1007/bf01062811
• 页码229-250