发现好书期刊，享受阅读乐趣

海量图书期刊资源，随时随地畅享阅读乐趣

Stoichiometry and impurities in sputtered alumina films on copper

Stoichiometry and impurities in sputtered alumina films on copper

P. Vuoristo; T. Mäntylä; P. Kettunen; R. Lappalainen

作者P. Vuoristo; T. Mäntylä; P. Kettunen; R. Lappalainen
卷第204卷
期第2期
印刷ISSN0040-6090
文件大小1029.16KB
发表时间1991
DOI10.1016/0040-6090(91)90071-5
页码297-311

← 返回【学霸图书馆】主页