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Reactive ion etching of SiGe alloys using HBr

Reactive ion etching of SiGe alloys using HBr

T. D. Bestwick; G. S. Oehrlein; Y. Zhang; G. M. W. Kroesen; E. De Frésart
  • 作者T. D. Bestwick; G. S. Oehrlein; Y. Zhang; G. M. W. Kroesen; E. De Frésart
  • 文件大小675.84KB
  • 发表时间1991
  • DOI10.1063/1.105588
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