发现好书期刊,享受阅读乐趣

海量图书期刊资源,随时随地畅享阅读乐趣

Suppression of nucleation during crystallization of amorphous thin Si films

Suppression of nucleation during crystallization of amorphous thin Si films

Im, James S.; Shin, Jung H.; Atwater, Harry A.
  • 期刊名称Applied Physics Letters
  • 作者Im, James S.; Shin, Jung H.; Atwater, Harry A.
  • 卷第59卷
  • 期第18期
  • 印刷ISSN0003-6951
  • 文件大小688.98KB
  • 发表时间1991
  • DOI10.1063/1.106054
← 返回【学霸图书馆】主页