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Open questions regarding the mechanism of plasma-induced deposition of silicon

Open questions regarding the mechanism of plasma-induced deposition of silicon

Stan Vepřek; Maritza G. J. Vepřek-Heijman
  • 作者Stan Vepřek; Maritza G. J. Vepřek-Heijman
  • 卷第11卷
  • 期第3期
  • 印刷ISSN0272-4324
  • 电子ISSN1572-8986
  • 文件大小504.33KB
  • 发表时间1991-09
  • DOI10.1007/bf01458914
  • 页码323-334
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