Open questions regarding the mechanism of plasma-induced deposition of silicon
Stan Vepřek; Maritza G. J. Vepřek-Heijman
- 作者Stan Vepřek; Maritza G. J. Vepřek-Heijman
- 卷第11卷
- 期第3期
- 印刷ISSN0272-4324
- 电子ISSN1572-8986
- 文件大小504.33KB
- 发表时间1991-09
- DOI10.1007/bf01458914
- 页码323-334