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Rapid thermal oxidation of thin nitride dielectrics deposited on rapid thermal nitrided polycrystalline silicon

Rapid thermal oxidation of thin nitride dielectrics deposited on rapid thermal nitrided polycrystalline silicon

Itoh, S.; Lo, G. Q.; Kwong, D. L.; Mathews, V. K.; Fazan, P. C.
  • 期刊名称Applied Physics Letters
  • 作者Itoh, S.; Lo, G. Q.; Kwong, D. L.; Mathews, V. K.; Fazan, P. C.
  • 卷第61卷
  • 期第11期
  • 印刷ISSN0003-6951
  • 文件大小528.87KB
  • 发表时间1992
  • DOI10.1063/1.107576
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