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A kinetic model for silicide formation through thin-film metal-silicon reactions

A kinetic model for silicide formation through thin-film metal-silicon reactions

Zhang, Lin; Ivey, Douglas G.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者Zhang, Lin; Ivey, Douglas G.
卷第71卷
期第9期
印刷ISSN0021-8979
文件大小1978.93KB
发表时间1992
DOI10.1063/1.350813

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