发现好书期刊，享受阅读乐趣

海量图书期刊资源，随时随地畅享阅读乐趣

Surface Cleaning Prior to Formation of Si/SiO2 Interfaces by Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (RPECVD)

Surface Cleaning Prior to Formation of Si/SiO2 Interfaces by Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (RPECVD)

Lamb, H. H.; Kalem, S.; Bedge, S.; Yasuda, T.; Ma, Y.; Lucovsky, G.

期刊名称MRS Proceedings
作者Lamb, H. H.; Kalem, S.; Bedge, S.; Yasuda, T.; Ma, Y.; Lucovsky, G.
卷第259卷
电子ISSN1946-4274
文件大小321.58KB
发表时间1992-1
DOI10.1557/proc-259-75

← 返回【学霸图书馆】主页