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HI/H2 ECR Plasma Etching of III-V Semiconductors

Pearton, S. J.; Chakrabarti, U. K.; Katz, A.; Ren, F.; Fullowan, T. R.; Abernathy, C. R.; Hobson, W. S.

期刊名称MRS Proceedings
作者Pearton, S. J.; Chakrabarti, U. K.; Katz, A.; Ren, F.; Fullowan, T. R.; Abernathy, C. R.; Hobson, W. S.
卷第268卷
电子ISSN1946-4274
文件大小353.43KB
发表时间1992-1
DOI10.1557/proc-268-17