Plasma nitriding of sputtered Ti films
J. Musil; J. Vlček; V. Ježek; M. Kubásek; R. Čerstvý; T. Tölg; M. Benda; M. Kolega; J. Musil Jr.
- 作者J. Musil; J. Vlček; V. Ježek; M. Kubásek; R. Čerstvý; T. Tölg; M. Benda; M. Kolega; J. Musil Jr.
- 卷第163卷
- 期第2期
- 印刷ISSN0921-5093
- 文件大小798.99KB
- 发表时间1993
- DOI10.1016/0921-5093(93)90786-e
- 页码181-186