发现好书期刊,享受阅读乐趣

海量图书期刊资源,随时随地畅享阅读乐趣

Plasma nitriding of sputtered Ti films

Plasma nitriding of sputtered Ti films

J. Musil; J. Vlček; V. Ježek; M. Kubásek; R. Čerstvý; T. Tölg; M. Benda; M. Kolega; J. Musil Jr.
  • 作者J. Musil; J. Vlček; V. Ježek; M. Kubásek; R. Čerstvý; T. Tölg; M. Benda; M. Kolega; J. Musil Jr.
  • 卷第163卷
  • 期第2期
  • 印刷ISSN0921-5093
  • 文件大小798.99KB
  • 发表时间1993
  • DOI10.1016/0921-5093(93)90786-e
  • 页码181-186
← 返回【学霸图书馆】主页