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Analysis of low energy boron implants in silicon through SiO2 films: implantation damage and anomalous diffusion

Analysis of low energy boron implants in silicon through SiO2 films: implantation damage and anomalous diffusion

L. Kaabi; C. Gontrand; B. Remaki; F. Seigneur; B. Balland
  • 作者L. Kaabi; C. Gontrand; B. Remaki; F. Seigneur; B. Balland
  • 卷第25卷
  • 期第7期
  • 印刷ISSN0026-2692
  • 文件大小729.21KB
  • 发表时间1994
  • DOI10.1016/0026-2692(94)90042-6
  • 页码567-576
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