An efficient method for plasma-charging damage measurement

• 期刊名称IEEE Electron Device Letters
• 作者Cheung, K.P.
• 卷第15卷
• 期第11期
• 印刷ISSN0741-3106
• 电子ISSN1558-0563
• 文件大小245.34KB
• 发表时间1994-11
• DOI10.1109/55.334667
• 页码460-462