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Silicon Oxynitride and Oxide-Nitride-Oxide Gate Dielectrics by Combined Plasma-Rapid Thermal Processing

Silicon Oxynitride and Oxide-Nitride-Oxide Gate Dielectrics by Combined Plasma-Rapid Thermal Processing

Ma, Y.; Hattangady, S.V.; Yasuda, T.; Niimi, H.; Gandhi, S.; Lucovsky, G.

期刊名称MRS Proceedings
作者Ma, Y.; Hattangady, S.V.; Yasuda, T.; Niimi, H.; Gandhi, S.; Lucovsky, G.
卷第342卷
电子ISSN1946-4274
文件大小347.21KB
发表时间1994-1
DOI10.1557/proc-342-169

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