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Plasma Chemistry Dependent ECR Etching of GaN

Shul, R. J.; Ashby, C. I. H.; Rieger, D. J.; Howard, A. J.; Pearton, S. J.; Abernathy, C. R.; Vartuli, C. B.; Barnes, P. A.; Davis, P.

期刊名称MRS Proceedings
作者Shul, R. J.; Ashby, C. I. H.; Rieger, D. J.; Howard, A. J.; Pearton, S. J.; Abernathy, C. R.; Vartuli, C. B.; Barnes, P. A.; Davis, P.
卷第395卷
电子ISSN1946-4274
文件大小1007.28KB
发表时间1995-1
DOI10.1557/proc-395-751