Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Zirconium Nitride Thin Films
Atagi, Lauren M.; Samuels, John A.; Smith, David C.; Hoffman, David M.
- 期刊名称MRS Proceedings
- 作者Atagi, Lauren M.; Samuels, John A.; Smith, David C.; Hoffman, David M.
- 卷第410卷
- 电子ISSN1946-4274
- 文件大小947.56KB
- 发表时间1995-1
- DOI10.1557/proc-410-289