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Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Zirconium Nitride Thin Films

Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Zirconium Nitride Thin Films

Atagi, Lauren M.; Samuels, John A.; Smith, David C.; Hoffman, David M.
  • 期刊名称MRS Proceedings
  • 作者Atagi, Lauren M.; Samuels, John A.; Smith, David C.; Hoffman, David M.
  • 卷第410卷
  • 电子ISSN1946-4274
  • 文件大小947.56KB
  • 发表时间1995-1
  • DOI10.1557/proc-410-289
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