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Electromigration in Submicron Wide Copper Lines

Electromigration in Submicron Wide Copper Lines

Kononenko, O. V.; Matveev, V. N.; Koval, Yu. I.; Dubonos, S. V.; Volkov, V. T.

期刊名称MRS Proceedings
作者Kononenko, O. V.; Matveev, V. N.; Koval, Yu. I.; Dubonos, S. V.; Volkov, V. T.
卷第427卷
电子ISSN1946-4274
文件大小988.03KB
发表时间1996-1
DOI10.1557/proc-427-127

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