Progress in 193 nm Positive Resists.

• 期刊名称Journal of Photopolymer Science and Technology
• 作者ALLEN, R. D.; SOORIYAKUMARAN, R.; OPITZ, J.; WALLRAFF, G. M.; BREYTA, G.; DIPIETRO, R. A.; HOFER, D. C.; KUNZ, R. R.; OKOROANYANWU, U.; WILLSON, C. G.
• 卷第9卷
• 期第3期
• 印刷ISSN0914-9244
• 电子ISSN1349-6336
• 文件大小505.35KB
• 发表时间1996
• DOI10.2494/photopolymer.9.465
• 页码465-474