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Photoresists for 193-nm lithography

Photoresists for 193-nm lithography

R. D. Allen; G. M. Wallraff; D. C. Hofer; R. R. Kunz
  • 作者R. D. Allen; G. M. Wallraff; D. C. Hofer; R. R. Kunz
  • 卷第41卷
  • 期第1期
  • 文件大小1094.99KB
  • 发表时间1997
  • DOI10.1147/rd.411.0095
  • 页码95-104
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