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Behavior of Defects in Heavily Boron Doped Czochralski Silicon
T. Ono; E. Asayama; H. Horie; M. Hourai; M. Sano; H. Tsuya; K. Nakai
作者
T. Ono; E. Asayama; H. Horie; M. Hourai; M. Sano; H. Tsuya; K. Nakai
文件大小
395.67KB
发表时间
1997
DOI
10.1143/JJAP.36.L249
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