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Nanoscale atomic lithography with a cesium atomic beam

Nanoscale atomic lithography with a cesium atomic beam

F. Lison; H.-J. Adams; D. Haubrich; M. Kreis; S. Nowak; D. Meschede

作者F. Lison; H.-J. Adams; D. Haubrich; M. Kreis; S. Nowak; D. Meschede
卷第65卷
期第3期
印刷ISSN0946-2171
电子ISSN1432-0649
文件大小322.27KB
发表时间1997-09
DOI10.1007/s003400050290
页码419-421

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