High Reactivity of CH2Radical in an AR–CH4Post-Discharge

• 作者J. L. Jauberteau; L. Thomas; J. Aubreton; I. Jauberteau; A. Catherinot
• 卷第18卷
• 期第1期
• 印刷ISSN0272-4324
• 电子ISSN1572-8986
• 文件大小635.46KB
• 发表时间1998-03
• DOI10.1023/a:1021797428416
• 页码137-151