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Characteristics of a pulsed DC-glow discharge CVD reactor for deposition of thick diamond films

Characteristics of a pulsed DC-glow discharge CVD reactor for deposition of thick diamond films

P. Hartmann; R. Haubner; B. Lux

作者P. Hartmann; R. Haubner; B. Lux
卷第16卷
期第3期
印刷ISSN0263-4368
文件大小1102.39KB
发表时间1998
DOI10.1016/s0263-4368(98)00020-1
页码207-216

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