A high-performance polycrystalline silicon thin film transistor with a silicon nitride gate insulator

• 作者Lee, K.H.; Park, J.K.; Jin Jang
• 卷第45卷
• 期第12期
• 印刷ISSN0018-9383
• 电子ISSN1557-9646
• 文件大小105.95KB
• 发表时间1998
• DOI10.1109/16.735734
• 页码2548-2551