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Ion-assisted etching of boron nitride in radio frequency capacitive discharges

Ion-assisted etching of boron nitride in radio frequency capacitive discharges

F. Rossi; L. Thomas; C. Schaffnit

作者F. Rossi; L. Thomas; C. Schaffnit
印刷ISSN0257-8972
文件大小746.41KB
发表时间1998
DOI10.1016/s0257-8972(97)00586-0
页码49-54

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