A 130-mm2, 256-Mbit NAND flash with shallow trench isolation technology

Imamiya, K.; Sugiura, Y.; Nakamura, H.; Himeno, T.; Takeuchi, K.; Ikehashi, T.; Kanda, K.; Hosono, K.; Shirota, R.; Aritome, S.; Shimizu, K.; Hatakeyama, K.; Sakui, K.

作者Imamiya, K.; Sugiura, Y.; Nakamura, H.; Himeno, T.; Takeuchi, K.; Ikehashi, T.; Kanda, K.; Hosono, K.; Shirota, R.; Aritome, S.; Shimizu, K.; Hatakeyama, K.; Sakui, K.
卷第34卷
期第11期
文件大小480.96KB
发表时间1999
DOI10.1109/4.799860
页码1536-1543

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A 130-mm2, 256-Mbit NAND flash with shallow trench isolation technology