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A New Photoresist Based on Calix[4]resorcinarene Dendrimer

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Haba, Osamu; Haga, Kohji; Ueda, Mitsuru; Morikawa, Osamu; Konishi, Hisatoshi

期刊名称Chemistry of Materials
作者Haba, Osamu; Haga, Kohji; Ueda, Mitsuru; Morikawa, Osamu; Konishi, Hisatoshi
卷第11卷
期第2期
印刷ISSN0897-4756
电子ISSN1520-5002
文件大小175.58KB
发表时间1999-02
DOI10.1021/cm980654v
页码427-432

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