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Dopant activation of heavily doped silicon-on-insulator by high density currents

Dopant activation of heavily doped silicon-on-insulator by high density currents

Chen, Chih; Huang, J. S.; Liao, C. N.; Tu, K. N.

期刊名称Journal of Applied Physics
作者Chen, Chih; Huang, J. S.; Liao, C. N.; Tu, K. N.
卷第86卷
期第3期
印刷ISSN0021-8979
文件大小527.15KB
发表时间1999
DOI10.1063/1.370928

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