Ultrashallow thermal donor formation in silicon by annealing in ambient oxygen

• 期刊名称Journal of Applied Physics
• 作者Åberg, D.; Linnarsson, M. K.; Svensson, B. G.; Hallberg, T.; Lindström, J. L.
• 卷第85卷
• 期第12期
• 印刷ISSN0021-8979
• 文件大小335.70KB
• 发表时间1999
• DOI10.1063/1.370642