Silicide formation in implanted channels and interfacial reactions of metal contacts under high current density

Chen, K. N.; Lin, H. H.; Cheng, S. L.; Peng, Y. C.; Shen, G. H.; Chen, L. J.; Chen, C. R.; Huang, J. S.; Tu, K. N.

期刊名称Journal of Materials Research
作者Chen, K. N.; Lin, H. H.; Cheng, S. L.; Peng, Y. C.; Shen, G. H.; Chen, L. J.; Chen, C. R.; Huang, J. S.; Tu, K. N.
卷第14卷
期第12期
印刷ISSN0884-2914
电子ISSN2044-5326
文件大小795.83KB
发表时间1999-12
DOI10.1557/jmr.1999.0639
页码4720-4726

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