Localized stress near and the thermal expansion of Al[sub 2]Cu precipitates in an Al thin film matrix
Lokker, J. P.; van der Pers, N. M.; Verbruggen, A. H.; Janssen, G. C. A. M.; Jongste, J. F.; Radelaar, S.
- 期刊名称Journal of Applied Physics
- 作者Lokker, J. P.; van der Pers, N. M.; Verbruggen, A. H.; Janssen, G. C. A. M.; Jongste, J. F.; Radelaar, S.
- 卷第87卷
- 期第2期
- 印刷ISSN0021-8979
- 文件大小384.98KB
- 发表时间2000
- DOI10.1063/1.371926