ChemInform Abstract: Trifluoromethylsulfenylation of Masked Carbonyl Compounds.
S. Munavalli; D. K. Rohrbaugh; D. I. Rossman; F. J. Berg; G. W. Wagner; H. D. Durst
- 作者S. Munavalli; D. K. Rohrbaugh; D. I. Rossman; F. J. Berg; G. W. Wagner; H. D. Durst
- 卷第31卷
- 期第47期
- 印刷ISSN0931-7597
- 电子ISSN1522-2667
- 文件大小27.47KB
- 发表时间2000
- DOI10.1002/chin.200047064