Absolute total and partial cross sections for the electron impact ionization of tetrafluorosilane (SiF[sub 4])
Basner, R.; Schmidt, M.; Denisov, E.; Becker, K.; Deutsch, H.
- 期刊名称The Journal of Chemical Physics
- 作者Basner, R.; Schmidt, M.; Denisov, E.; Becker, K.; Deutsch, H.
- 卷第114卷
- 期第3期
- 印刷ISSN0021-9606
- 文件大小473.36KB
- 发表时间2001
- DOI10.1063/1.1333018